熱処理装置（酸化・拡散・アニール）
熱処理装置（酸化・拡散・アニール）
概要
半導体の前工程において、ウェーハを高温で加熱し、酸化膜の形成、不純物の拡散、イオン注入後の結晶回復・活性化などを行う装置
役割
熱処理装置は「半導体の前工程（ウェハ処理工程）において、酸化・拡散・アニールなどの高温処理を担う装置」です。例えば、イオン注入工程後の活性化熱処理などに使用し、半導体製造工程の幅広い領域で活躍します。
多数のウェーハを一括処理するバッチ式と、1枚ずつ処理する枚葉式（RTP）がある。
