半導体のフォトリソグラフィ工程において、シリコンウェーハの表面に感光性材料を塗布する「コータ」と、露光後に現像する「デベロッパ」の機能を一体化した装置

• フォトレジスト塗布（Coater）

  ウェーハを高速回転させて感光性樹脂（フォトレジスト）をナノメートル単位の均一な薄膜で成膜する。

• 現像（Developer）

  露光装置から搬送されたウェハに現像液を供給し、光照射によって化学変化を起こした不要領域を選択的に溶解・除去して回路パターンを形成する。

• コータデベロッパ世界シェア：91%^[1]

  

  フォトリソグラフィーに欠かせないコータ・デベロッパ（塗布・現像装置）で世界シェア91%を有する（CY2025）^[1]。リソグラフィは、フォトレジスト塗布・露光・現像の工程がインライン（一連の装置）でおこなわれることが多い。装置には高い信頼性や制御性が求められ、他社の参入障壁になっている。

• EUV露光用の塗布現像装置世界シェア：100%^[2]

  半導体の進化に必要不可欠なEUV露光用のコータ・デベロッパ（塗布現像装置）で世界シェア100%。^[2]