信越化学工業の製品・技術ハイライト

フォトレジスト

概要

半導体のフォトリソグラフィ工程で、ウェハ上に塗布される感光性樹脂材料。光（紫外線・EUVなど）を当てた部分の現像液への溶けやすさが変化する性質を利用して、回路パターンを形成する

役割

半導体の前工程（ウェハ処理工程）におけるリソグラフィ（露光）プロセスで、回路パターンの「型」となる感光性材料。

露光により光が照射されたフォトレジストは、非露光部と比較して溶解性が変化する。

この溶解性の違いにより、フォトマスクの回路パターンがフォトレジストに転写される。このレジストをマスクとし、続くエッチングやイオン注入を行うことで、微細な構造・回路を形成することが可能です。

信越化学工業の強み

出典