信越化学工業 — 沿革
会社設立からの主な出来事の推移
沿革一覧
1926年9月
信濃電気株式会社と日本窒素肥料株式会社との共同出資により、信越窒素肥料株式会社として発足
1940年3月
社名を信越化学工業株式会社に変更
1949年5月
東京証券取引所に株式を上場
1953年10月
磯部工場において珪素樹脂（シリコーン）の製造開始
1960年7月
磯部工場において半導体シリコンの製造開始
1967年3月
信越半導体株式会社（半導体シリコンの製造　現連結子会社）を設立
1968年12月
信越酢酸ビニル株式会社（現日本酢ビ・ポバール株式会社　酢酸ビニルモノマー及びポバールの製造　現連結子会社）を設立
1973年2月
武生工場において希土類磁石の製造開始
1973年7月
シンテックINC.（塩化ビニルの製造　現連結子会社）を米国に設立
1979年10月
直江津工場において合成石英製ＩＣフォトマスク用基板の製造開始
1983年11月
磯部工場において光ファイバー用プリフォームの製造開始
1996年2月
オーストラリアの金属珪素製造会社シムコアオペレーションズPTY.LTD.（現連結子会社）を買収
2005年7月
直江津工場においてマスクブランクスの製造開始
2015年4月
シンテックINC.がエチレン工場（米国　ルイジアナ州）の建設を決定
2020年3月
シンテックINC.においてエチレンの製造開始
2024年11月
三益半導体工業株式会社（半導体シリコンの加工　現連結子会社）を完全子会社化
2026年1月
群馬県伊勢崎市に伊勢崎工場を新設
出典
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