洗浄装置
洗浄装置
概要
半導体製造の各工程の前後で、ウェーハ表面のパーティクル・金属汚染・有機物・自然酸化膜などを、薬液と超純水で除去し、清浄な表面を保つ装置
役割
半導体の前工程（ウェハ処理工程）のほぼすべての工程前後で使用され、歩留まりを支える装置。ウェーハ1枚ずつ処理する枚葉式と、複数枚を一括処理するバッチ式がある。
- 枚葉式洗浄装置
ウェーハを回転させながら、ノズルから薬液・超純水を供給して洗浄する。パーティクル再付着の抑制やウェーハ間のばらつき低減に優れ、微細化が進む先端プロセスで主流。
- バッチ式洗浄装置
複数枚のウェーハを薬液槽に浸漬して一括で洗浄する。処理能力（スループット）に優れる。
出典
- [1] 東京エレクトロン 決算短信（2026年3月期） 東京エレクトロン
- [2] 東京エレクトロン 統合報告書2026 東京エレクトロン