テセック — 研究開発・設備投資
研究開発費・設備投資額および売上高比率の推移(連結)
研究開発費 推移
設備投資 推移
研究開発・設備投資サマリー
指標 FY16 FY17 FY18 FY19 FY20 FY21 FY22 FY23 FY24 FY25 FY26
売上高(百万円) 3,1414,0955,8697,1944,1593,4497,5128,7438,6195,8925,567
研究開発費(百万円) 248225156275290234240348425337353
売上高研究開発費比率 7.9%5.5%2.7%3.8%7%6.8%3.2%4%4.9%5.7%6.3%
設備投資額(百万円) 9213233212854123428235112
売上高設備投資比率 0.3%0.5%0.5%0.5%0.5%0.8%0.7%1.4%5%4%2%
研究開発活動本文

6【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は353百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) スイッチングテスタのリニューアル
 パワー半導体市場における継続的な需要に対応するため、制御系ハードウェアおよびソフトウェアを刷新したリニューアルモデルを開発中であります。これにより、製品の継続供給体制を強化するとともに、次世代製品展開に向けた基盤構築を進めております。

(2) ウェハパラレルテスタの機能拡充
 パワー半導体の評価ニーズの高度化に対応するため、既存のDC/UISワンパスシステムをベースに、対応機種の拡大および評価機能の拡充に向けた新ユニットを開発中であります。

(3) MAPシステムの用途拡大
 AIサーバ向け需要の拡大を背景に、主力モデルであるMAPハンドラの用途拡大を目的として、新たなバージョンの開発を進めております。これにより、従来対応が困難であった形状やサイズへの対応が可能となり、装置の用途拡大と市場競争力の強化を見込んでおります。

(4) ストリップハンドラ
 ストリップフレーム状デバイスを個片化せずに高低温環境下で測定できるリードフレームストリップハンドラの開発を完了しました。従来モデルで培ったアライメント機能および位置・高さ補正機能を強化し、高耐荷重・高精度ステージとの組み合わせにより、多数個同時測定を実現しました。また、温度環境試験への対応により信頼性の高い検査が可能となり、検査工程における生産効率の大幅改善に寄与する製品としております。

 

 

6【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は337百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) スイッチングテスタの大電流化対応
 SiCデバイスの普及に伴い高まる大電流測定ニーズに対応するため、既存製品をベースに、対応ユニットを用いた大電流印加対応モデルの試作を完了しました。これにより、市場要求に応える次世代測定システムの基盤を構築しました。

(2) MEMSハンドラ
 MEMSハンドラの拡販およびタイムリーな技術サポートを進めるため、協業先である米国企業より技術関連資産を取得し、測定ユニットの内製化に向けた要素技術の開発を完了しました。併せて、その過程の見直しを通じて原価低減も実現しました。

(3) MAPシステムの用途拡大
 主力モデルであるMAPハンドラの搬送方式多様化を図るべく、新たなバージョンの開発を進めております。これにより、従来対応が困難であった形状やサイズへの対応が可能となり、装置の用途拡大と市場競争力の強化を見込んでおります。

(4) ストリップハンドラ
 市場ニーズの高まりが見込まれるモデルを新たにラインナップするため、ICを個片化する前の短冊形状の状態のまま搬送する方式のハンドラを開発中であります。

 

 

6【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は425百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) ウェハパラレルテスタ用測定ユニット
 EVをはじめとするモビリティの電動化が進む中、モーター等の誘導性負荷を制御する役割を担うパワー半導体のウェハ測定において、静特性(DC)だけでなく、品質の高いアバランシェ耐量(UIS)測定が求められています。またパワー半導体コスト削減のためにウェハ口径の300mm 化も進んでいます。このようなニーズを受け、プローバとのダイレクトドッキングを実現し、DC及びUIS試験をワンタッチダウンで測定可能にしたテストシステムを開発し、市場投入しました。これにより、ユーザーは生産効率化と工場内のフットプリント削減が可能となります。

(2) IPD/IPMテスタ
 モビリティの電動化や省エネ化に伴い、パワー半導体をゲート制御する回路や保護機能を搭載したIPD/IPM(インテリジェント・パワー・デバイス / インテリジェント・パワー・モジュール)の需要増加が見込まれています。この分野での市場獲得に向け、当社が培ってきたパワーディスクリート半導体の測定技術を活かした新プラットフォームをベースとするIPD/IPM用テストシステムを開発し、市場投入しました。

(3) パワーデバイス向けハンドラ用追加仕様
 パワーデバイス向け自重落下式トライテンプハンドラの拡販に向け、大型デバイスや特殊形状デバイスなどに対応可能な追加仕様の開発を完了しました。

(4) MEMSハンドラ
 MEMSハンドラの拡販およびタイムリーな技術サポートを進めるため、協業先の米国企業より技術関連資産を取得の上、測定ユニットの内製化に向け要素技術を開発中であります。

(5) 高低温ハンドラ
 車載向けデバイスの成長に伴い高温環境や低温環境におけるテスト需要が増加する中、高精度の温度測定技術を活用し、温度ソリューションを主力機種に順次展開しています。各種ハンドラに高低温機能を付加することにより、競争力のある後継機の提供が可能となっています。

(6) ストリップハンドラ
 市場ニーズの高まりが見込まれるモデルを新たにラインナップするため、ICを個片化する前の短冊形状の状態のまま搬送する方式のハンドラの開発を開始しました。

 

 

6【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は348百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) パワーデバイス用新型テスタ
 省エネ、高効率化志向の高まりを背景にパワーデバイスの需要増加が見込まれるなか、新型のIPD/IPMテストシステムを開発し、市場投入しました。このシステムは、従来よりも幅広いデバイスの測定が可能であるとともに、汎用性の高いプラットフォームを採用したことにより、拡張性、汎用性、フレキシビリティが大幅に向上しております。

(2) ハンドラ用オートローダー
 半導体メーカーにおける工場自動化へのニーズが高まるなか、大手主要顧客との継続的な関係を構築するため、既納入設備に接続可能な自動供給/回収装置の開発を完了しました。このオートローダーを既存設備に追加することで、ユーザーの生産性向上が可能となります。

(3) 高低温ハンドラ
 自動車の電装化進展に伴い車載向けデバイスの成長が見込まれるなか、高温環境や低温環境におけるテスト需要が増加しています。当社は、高精度の温度測定技術を活用し、温度ソリューションを主力機種に順次展開しています。高低温機能を付加することにより、競争力のある後継機の提供が可能となっています。

(4) MEMSハンドラ
 MEMSハンドラの拡販およびタイムリーな技術サポートを進めるため、米国企業より提供を受けている測定部に関する知見を高めることで、測定ユニットの要素技術を開発中であります。

(5) ウェハパラレルテスタ用測定ユニット
 ウェハ工程における複数項目測定の需要が高まるなか、これを実現するウェハパラレルテスタの開発を開始しました。これにより、ユーザーは生産効率化と工場内のフットプリント削減が可能となります。

(6) IPD/IPMテスタ用基板・ソフトウェア
 市場からの要望を踏まえ、IPD/IPMテスタの機能強化、メンテナンス性向上、生産効率化のため、新たな専用基板およびソフトウェアの開発を開始しました。

(7) パワーデバイス向けハンドラ用追加仕様
 パワーデバイス向け自重落下式トライテンプハンドラの拡販に向け、大型デバイスや特殊形状デバイスなどに対応可能な追加仕様の開発を開始しました。

 

5【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は240百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) 高低温ハンドラ
 自動車の電装化進展に伴い車載向けデバイスの需要増加が見込まれるなか、温度ソリューションにおいて蓄積された高精度の環境測定技術を主力機種に順次展開中であります。高低温機能を付加することにより、後継機として競争力のある新型モデルの開発につなげてまいります。

(2) パワーデバイス用テスタ
 省エネ、高効率化志向の高まりを背景にパワーデバイスの需要増加が見込まれるなか、拡張性、汎用性、フレキシビリティをコンセプトに、プラットフォーム共通化を実現する次世代の高電圧・高電流ディスクリートデバイスおよびパワーモジュール用テストシステムの構築を進めております。コアとなる要素技術の開発を完了し、IPD/IPMテストシステムを開発中であります。

(3) ハンドラ用オートローダー
 半導体メーカーにおける工場自動化へのニーズが高まるなか、大手主要顧客との継続的な関係を構築するため、既納入設備に接続可能な自動供給/回収装置の開発を開始しました。

(4) MEMSハンドラ
 米国企業より提供を受けている測定部に関する知見を高めることで、MEMSハンドラの拡販およびタイムリーな技術サポートを進めるため、測定ユニットの要素技術開発を開始しました。

5【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は234百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) 高低温ハンドラ
 自動車の電装化進展に伴い車載向けデバイスの需要増加が見込まれるなか、温度ソリューションにおいて蓄積された高精度の環境測定技術を主力機種に順次展開し、高低温機能を付加することにより、後継機として競争力のある新型モデルを開発中であります。

(2) パワーデバイス用テスタ
 省エネ、高効率化志向の高まりを背景にパワーデバイスの需要増加が見込まれるなか、拡張性、汎用性、フレキシビリティをコンセプトに、プラットフォーム共通化を実現する次世代の高電圧・高電流ディスクリートデバイスおよびパワーモジュール用テストシステムの構築を進めております。コアとなる要素技術の開発を完了し、IPD/IPMテストシステムを開発中であります。

(3) MEMSハンドラ
 加速度センサやジャイロセンサなどの車載用MEMS向けソリューションを展開するため、販売中のMEMSハンドラと設備の共通性を持たせつつ、COMBO MEMSに適した新型モデルの開発を完了しました。

5【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は290百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) 高低温ハンドラ
 自動車の電装化進展に伴い車載向けデバイスの需要増加が見込まれるなか、温度ソリューションにおいて蓄積された高精度の環境測定技術を主力機種に展開し、高低温機能を付加することにより、後継機として競争力のある新型モデルを開発中であります。

(2) パワーデバイス用テスタ
 省エネ、高効率化志向の高まりを背景にパワーデバイスの需要増加が見込まれるなか、拡張性、汎用性、フレキシビリティをコンセプトに、プラットフォーム共通化を実現する次世代の高電圧・高電流ディスクリートデバイスおよびパワーモジュール用テストシステムの構築を進めております。コアとなる要素技術の開発を完了し、IPD/IPMテストシステムを開発中であります。

(3) MEMSハンドラ
 加速度センサやジャイロセンサなどの車載用MEMS向けソリューションを展開するため、販売中のMEMSハンドラと設備の共通性を持たせつつ、COMBO MEMSに適した新型モデルを開発中であります。

5【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は275百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) 高低温ハンドラ
 自動車の電装化進展に伴い車載向けデバイスの需要増加が見込まれるなか、温度ソリューションにおいて蓄積された高精度の測定環境技術を主力機種に展開し、高低温機能を付加することにより、後継機として競争力のある新型モデルを開発中であります。

(2) パワーデバイス用テスタ
 省エネ、高効率化志向の高まりを背景にパワーデバイスの需要増加が見込まれるなか、拡張性、汎用性、フレキシビリティをコンセプトに、プラットフォーム共通化を実現する次世代の高電圧・高電流ディスクリートデバイスおよびパワーモジュール用テストシステムの構築を進めております。コアとなる要素技術の開発を完了し、プラットフォームを開発中であります。

(3) MEMSハンドラ
 加速度センサやジャイロセンサなどの車載用MEMS向けソリューションを展開するため、販売中のMEMSハンドラと設備の共通性を持たせつつ、COMBO MEMSに適した新型モデルを開発中であります。

5【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は1億56百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) 高低温ハンドラ
 自動車の電装化進展に伴い車載向けデバイスの需要増加が見込まれるなか、温度ソリューションにおいて蓄積された高精度の測定環境技術を主力機種に展開し、高低温機能を付加することより、後継機として競争力のある新型モデルを開発中であります。

(2) パワーデバイス用テスタ
 省エネ、高効率化志向の高まりを背景にパワーデバイスの需要増加が見込まれるなか、拡張性、汎用性、フレキシビリティをコンセプトに、プラットフォーム共通化を実現する次世代の高電圧・高電流ディスクリートデバイスおよびパワーモジュール用テスタを開発中であります。

6【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は2億25百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) 自重落下ハンドラ
 ロータリー式マルチトラック採用の大容量チャンバにより大幅な生産性向上と環境試験のワイドレンジ対応を実現する次世代パワーデバイス用新型グラビティーハンドラのフィールドテストが完了し、量産化に向け準備中であります。

(2) パワーデバイス測定システム
 多彩なオプションユニットの組合わせによる高品質で最適な測定環境の構築、プローバによるテスタのオペレーションと測定結果表示を可能としたパワーデバイス測定システムを株式会社東京精密と共同で開発し、販売を開始しました。

(3) ウェハパラレルテスタ
 拡張性、汎用性、フレキシビリティをコンセプトに、プラットフォーム共通化を実現する次世代の高電圧・高電流ディスクリートおよびパワー半導体用テスタを開発中であります。

6【研究開発活動】

当社グループは技術革新の激しい半導体業界にあって、広汎な顧客ニーズに的確に応えた製品を開発し、迅速に提供することを基本方針としており、今後の事業の中心となる製品開発を進めております。

当連結会計年度の研究開発費総額は2億48百万円であり、主な研究開発成果および進行状況は次のとおりであります。

(1) MEMS用ハンドラ
 携帯端末や自動車に搭載されるMEMS(微小機械電子システム)は、今後ますます需要が高まり、生産設備への投資拡大が予想されます。同デバイスはその特性から特殊な測定技術を必要とするため、米国企業と協業で高付加価値なMEMS用ハンドラを開発し、大手半導体メーカーにおいて製品評価を完了しました。

(2) 自重落下ハンドラ
 高度化するパワー系トライテンプハンドラへの市場要求へ対応するため、マルチデバイス対応の新型プラットフォームを備えた高速自重落下ハンドラの開発を完了しました。

(3) ウェハパラレルテスタ
 コスト低減、生産効率化を背景とした市場要求に対応するため、ウェハ状態の素子に対する同時測定および大電流測定技術を備え、処理能力を飛躍的に向上させたテスタの開発を完了しました。

設備投資等の概要・設備状況本文

3【設備の新設、除却等の計画】

  当連結会計年度において、新たに確定した重要な設備の新設の計画は、次のとおりであります。

会社名

事業所名

(所在地)

セグメントの名称

設備の

内容

投資予定金額

資金調達方法

着手及び完了予定

総額

(百万円)

既支払額

(百万円)

着手

完了

当社

東京都東大

和市ほか

半導体

検査装置

次期基幹

システム

562

408

自己資金

2022.8

(注)1

2027.4

(注)2

   (注)1.次期基幹システムの着手年月については、投資予定金額(総額)が取締役会にて最終承認された年月を記載

       しております。

     2.次期基幹システムの構築スケジュール変更に伴い、完了予定年月を2026年4月から2027年4月以降に変更

       しております。

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、主に次期基幹システムの開発費用であるソフトウエア仮勘定及び設計製造強化を目的として、112百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において以下の設備を売却しております。

会社名

所在地

設備の内容

帳簿価額(百万円)

売却年月

当社

長野県上伊那郡南箕輪村

土地・建物(遊休不動産)

6

2025年5月

 

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

2026年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

237

8

1,090

(8,317)

38

1,374

35

半導体検査装置開発設計設備

74

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

54

6

37

(13,394)

33

132

5

半導体検査装置生産設備

57

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。

(2)国内子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

3【設備の新設、除却等の計画】

  当連結会計年度において、新たに確定した重要な設備の新設の計画は、次のとおりであります。

会社名

事業所名

(所在地)

セグメントの名称

設備の

内容

投資予定金額

資金調達方法

着手及び完了予定

総額

(百万円)

既支払額

(百万円)

着手

完了

株式会社

テセック

東京都東大和市ほか

半導体

検査装置

次期基幹

システム

562

368

自己資金

2022.8

(注)1

2026.4

(注)2

   (注)1.次期基幹システムの着手年月については、投資予定金額(総額)が取締役会にて最終承認された年月を記載

       しております。

     2.次期基幹システムの構築スケジュール変更に伴い、完了予定年月を2025年2月から2026年4月以降に変更

       しております。

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、次期基幹システムの開発費用であるソフトウエア仮勘定を中心に235百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

2025年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

243

0

1,090

(8,317)

41

1,376

39

半導体検査装置開発設計設備

73

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

52

2

37

(13,394)

30

123

5

半導体検査装置生産設備

58

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品、建設仮勘定の合計であります。

(2)国内子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

3【設備の新設、除却等の計画】

  当連結会計年度において、新たに確定した重要な設備の新設の計画は、次のとおりであります。

会社名

事業所名

(所在地)

セグメントの名称

設備の

内容

投資予定金額

資金調達方法

着手及び完了予定

総額

(百万円)

既支払額

(百万円)

着手

完了

株式会社テセック

東京都東大和市ほか

半導体

検査装置

次期基幹

システム

562

200

自己資金

2022.8

2025.2

   (注)次期基幹システムの着手年月については、投資予定金額(総額)が取締役会にて最終承認された年月を記載し

    ております。

 

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、主に技術関連資産および次期基幹システムの開発費用であるソフトウエア仮勘定を中心に428百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

2024年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

224

0

1,090

(8,317)

43

1,359

41

半導体検査装置開発設計設備

78

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

56

3

37

(13,394)

22

119

5

半導体検査装置生産設備

59

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。

(2)国内子会社

 該当事項はありません。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

3【設備の新設、除却等の計画】

  当連結会計年度において、新たに確定した重要な設備の新設の計画は、次のとおりであります。

会社名

事業所名

(所在地)

セグメントの名称

設備の

内容

投資予定金額

資金調達方法

着手及び完了予定

総額

(百万円)

既支払額

(百万円)

着手

完了

株式会社

テセック

東京都東大和市ほか

半導体

検査装置

次期基幹

システム

562

66

自己資金

2022.8

2025.2

   (注)次期基幹システムの着手年月については、投資予定金額(総額)が取締役会にて最終承認された年月を記載し

    ております。

 

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、主に情報設備の更新投資および設計製造強化のため、123百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

2023年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

237

0

1,090

(8,317)

17

1,345

40

半導体検査装置開発設計設備

80

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

59

2

37

(13,394)

17

117

5

半導体検査装置生産設備

54

厚生施設

(長野県上伊那郡南箕輪村)

半導体検査装置

宿泊施設

-

-

6

(1,958)

-

6

-

テセック熊本

(熊本県上益城郡益城町)

半導体検査装置

半導体検査装置サービス設備

-

-

-

0

0

3

合計

297

2

1,134

(23,669)

34

1,469

182

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。

(2)国内子会社

 該当事項はありません。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

3【設備の新設、除却等の計画】

     該当事項はありません。

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、主に情報設備の更新投資および設計製造強化のため、54百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

2022年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

226

0

1,090

(8,317)

16

1,333

42

半導体検査装置開発設計設備

79

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

66

3

37

(13,394)

23

131

4

半導体検査装置生産設備

58

厚生施設

(長野県上伊那郡南箕輪村)

半導体検査装置

宿泊施設

19

-

39

(1,958)

0

59

-

テセック熊本

(熊本県上益城郡益城町)

半導体検査装置

半導体検査装置サービス設備

-

-

-

0

0

3

合計

312

3

1,167

(23,669)

39

1,523

186

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。

(2)国内子会社

 該当事項はありません。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

3【設備の新設、除却等の計画】

     該当事項はありません。

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、主に情報設備の更新投資および設計製造強化のため、28百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

2021年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

238

0

1,090

(8,317)

18

1,347

44

半導体検査装置開発設計設備

80

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

75

0

37

(13,394)

11

125

5

半導体検査装置生産設備

61

厚生施設

(長野県上伊那郡南箕輪村)

半導体検査装置

宿泊施設

21

-

39

(1,958)

0

60

-

テセック熊本

(熊本県上益城郡益城町)

半導体検査装置

半導体検査装置サービス設備

-

-

-

0

0

3

合計

335

0

1,167

(23,669)

29

1,532

193

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。

(2)国内子会社

 該当事項はありません。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

3【設備の新設、除却等の計画】

     該当事項はありません。

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、主に設計製造強化のため、21百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

2020年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

245

0

1,090

(8,317)

13

1,350

44

半導体検査装置開発設計設備

74

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

85

0

37

(13,394)

11

134

6

半導体検査装置生産設備

62

厚生施設

(長野県上伊那郡南箕輪村)

半導体検査装置

宿泊施設

22

-

39

(1,958)

0

61

-

テセック熊本

(熊本県上益城郡益城町)

半導体検査装置

半導体検査装置サービス設備

-

-

-

0

0

3

合計

353

0

1,167

(23,669)

25

1,546

189

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。

(2)国内子会社

 該当事項はありません。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

3【設備の新設、除却等の計画】

     該当事項はありません。

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、主に設計製造強化のため、33百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

2019年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

リース資産

(百万円)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

260

0

1,090

(8,317)

0

21

1,373

46

半導体検査装置開発設計設備

77

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

94

0

37

(13,394)

0

11

145

5

半導体検査装置生産設備

60

厚生施設

(長野県上伊那郡南箕輪村)

半導体検査装置

宿泊施設

23

-

39

(1,958)

-

0

62

-

テセック熊本

(熊本県上益城郡益城町)

半導体検査装置

半導体検査装置サービス設備

-

-

-

-

0

0

3

合計

378

0

1,167

(23,669)

1

33

1,581

191

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。

(2)国内子会社

 該当事項はありません。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、主に設計製造強化のため、32百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

平成30年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

リース資産

(百万円)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

274

0

1,090

(8,317)

1

18

1,385

47

半導体検査装置開発設計設備

74

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

105

0

37

(13,394)

2

5

150

8

半導体検査装置生産設備

58

厚生施設

(長野県上伊那郡南箕輪村)

半導体検査装置

宿泊施設

24

-

39

(1,958)

-

0

64

-

テセック熊本

(熊本県上益城郡益城町)

半導体検査装置

半導体検査装置サービス設備

-

-

-

-

0

0

3

合計

404

1

1,167

(23,669)

3

24

1,600

190

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。

(2)国内子会社

 該当事項はありません。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、主に開発業務強化のため、21百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

平成29年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

リース資産

(百万円)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

288

1

1,090

(8,317)

2

8

1,392

54

半導体検査装置開発設計設備

73

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

115

1

37

(13,394)

3

3

161

7

半導体検査装置生産設備

58

厚生施設

(長野県上伊那郡南箕輪村)

半導体検査装置

宿泊施設

24

-

39

(1,958)

-

0

64

-

テセック熊本

(熊本県上益城郡益城町)

半導体検査装置

半導体検査装置サービス設備

-

-

-

-

0

0

3

合計

429

2

1,167

(23,669)

5

12

1,617

195

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。

(2)国内子会社

 該当事項はありません。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

1【設備投資等の概要】

当社グループでは、主に情報設備の更新のため、9百万円の設備投資を実施いたしました。
 なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

 

2【主要な設備の状況】

当社グループにおける主要な設備は、次のとおりであります。

(1)提出会社

平成28年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの

名称

設備の内容

帳簿価額

従業

員数

(人)

建物及び

構築物

(百万円)

機械装置

及び運搬具

(百万円)

土地

(百万円)

(面積㎡)

リース資産

(百万円)

その他

(百万円)

合計

(百万円)

本社

(東京都東大和市)

半導体検査装置

管理業務施設

303

1

1,090

(8,317)

2

4

1,403

56

半導体検査装置開発設計設備

77

伊那事業所

(長野県上伊那郡箕輪町)

半導体検査装置

管理業務施設

127

0

37

(13,394)

5

1

171

7

半導体検査装置生産設備

60

厚生施設

(長野県上伊那郡南箕輪村)

半導体検査装置

宿泊施設

26

-

39

(1,958)

-

0

65

-

テセック熊本

(熊本県上益城郡益城町)

半導体検査装置

半導体検査装置サービス設備

-

-

-

-

0

0

4

合計

457

1

1,167

(23,669)

8

6

1,641

204

 (注)帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。

(2)国内子会社

 該当事項はありません。

(3)在外子会社

 重要性が乏しいため、記載を省略しております。

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